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              CVD工藝氣體管道系統和液體輸送系統

              2020-04-01 09:51:54    責任編輯: 工藝管道系統安裝廠家     0

              CVD工藝氣體和液體輸送系統

              化學氣相沉積(CVD)工藝是指半導體和太陽能行業中通常使用的一種制造程序。程序涉及從氣相將固體材料沉積到基板或晶片上。

              CVD工藝的關鍵組成部分之一是氣體輸送系統,該系統將前體供應到反應室。當氣體與加熱的基材接觸時,這些氣體分解(反應)并在基材上形成固體層。
              NFO技術



              這種CVD工藝使制造商可以在“摻雜”步驟中添加其他材料,包括鋅。在基板上施加一層摻雜會影響其導電能力。制造NFO薄膜的第一步需要創建一種NFO溶液,該溶液由一種有機溶劑與鐵和鎳化合物結合而成。

              其他步驟包括:

              ·在硅晶片上鋪鉑。

              ·將NFO解決方案引入晶圓。

              ·旋轉晶圓以使溶液均勻地分布在整個表面上。

              ·加熱晶片以溶解溶劑。

              ·在750攝氏度的溫度下重新加熱晶片,從而固化NFO。

              據研究人員稱,CVD程序還使該材料具有靈活性,并適用于多種應用。研究人員通過在摻雜過程中添加鋅,增強了NFO在較高溫度下保持其磁性的能力。

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